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스퍼터링 타겟 소재 E-Beam & Ion plating 소재 고굴절 관련소재 LED 방열용

스퍼터링 타겟 소재

제품 설명

  • LCD, PDP, OLED, TSP등의 디스플레이 부품의 핵심소재로 적용이 되며, sputtering기구를 통해 투명 전도성막을 형성하는 재료

투명전극소재

제품 사양

ITO(Indium Tin Oxide) Target
  • In2O3/SnO로 조성으로 이루어진 투명 전도성 세라믹 소재
    • 조성비 : 90wt% In2O3 + 10wt% SnO2
    • 밀도 : Above 99.5% of the theoretical material density
    • 순도 : 99.99% 이상
  • 평판 및 원통형 형태로 제작 가능
    • 평판사이즈 1250mm X 300mm X 6~14mmT 대응 가능
    • 원통사이즈 ID135mm X OD155 X L3,000mm 대응 가능

산화물반도체(OXIDE TFT) 소재

제품 사양

IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide) Target
  • In2O3/Ga2O3/ZnO로 조성으로 이루어진 투명 전도성 세라믹 소재
    • 조성비 : In:Ga:Zn=1:1:1, 2:2:1, 2:1:2, 4:2:1
    • 밀도 : 이론밀도의 99%이상
    • 순도 : 99.99% 이상
  • 평판 및 원통형 형태로 제작 가능
    • 평판사이즈 1250mm X 300mm X 6~14mmT 대응 가능
    • 원통사이즈 L3,000mm X ID135mm X OD155 X 대응 가능


제품 적용

  • TFT-LCD, PDP, OLED, Touch Panel, Flexible Display