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ITO Sputtering Target |
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ITO Sputtering Target |
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Product 소개 |
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ANP는 ITO 코팅 제품에 적용되는 최상급의 ITO target을 생산하여 전자 flat panet display, touch pannel contacts, energy 절약 & 자동차 유리, 광전자와 태양열 pannel 등에 사용 되고 있습니다.
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제품의 특성 |
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1. 구 성
- 표준 spec 90wt% In2O3 + 10 wt%SnO2
- 고객의 요구에 의해 조절 가능
2. 밀 도
- Target의 밀도 범위는 고객의 요청에 의해 low & ultra high grade로 변경이 가능 합나다.
- ANP’s ultra high ITO yields 는 99%의 밀도를 지닙니다.
Product |
Density(g/cm3) |
Deposit Method |
Low Density Tablet |
3.0 ~ 5.0 |
E-beam, Ion Plating |
Super High Density Target |
≥7.1 |
Ion Plating, Sputtering |
3. 순 도
≥ 99.99%
4. 치 수
- 고객의 요청에 의해 모양이나 크기가 다릅니다.
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제품의 특성 |
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- ANP의 ITO target구성은 raw material 생산 process을 포함하여 특별한 nano podwer로
제작이 되며 이 제품은 고객 제품의 질을 뛰어나게 향상 시켜 줍니다.
- 뛰어난 전도성 : < ρ = 1.7×10-4 Ω·㎝
- High Transparence : > 85%
- 물리적 반응에 대한 시간 낭비의 절약
- 증발 시간 동안의 0%에 가까운 Scattering Particles
- 증발 하는 동안의 0%에 가까운 Crack현상
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Microscopic photo |
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제품 적용 분야 |
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- Transparent Conductive Electrode (LCD, Touch Panel Screen, PDP, Organic EL and etc)
- EMI Shield Coating |
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그 외의 sputtering targets |
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- Zinc Oxide
- Indium Zinc Oxide
- Aluminum Zinc Oxide
- Indium Zinc Gallium Oxide
- Others (Metal & Metal Oxide target)
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